Fujifilm menggandakan kapasiti loji Oita untuk pembersih semikonduktor pasca-CMP

• Fujifilm Holdings menyelesaikan bangunan pengeluaran bahan semikonduktor canggih baru di Kilang Oita di Jepun.
• Pelaburan melebihi JPY 100 bilion dari FY2021 hingga FY2024 untuk mengembangkan kapasiti bahan semikonduktor di pelbagai wilayah.
• Kapasiti output Oita untuk pembersih pasca-CMP akan meningkat tiga kali ganda, menyasarkan peningkatan permintaan yang berkaitan dengan pembuatan semikonduktor canggih yang didorong oleh AI.
• Jualan pembersih pasca-CMP diunjurkan menjadi lebih daripada dua kali ganda pada FY2030 berbanding FY2024, disokong oleh tawaran pembersih buburan bersepadu.
• Panel solar di bangunan baru bertujuan untuk mengurangkan pelepasan gas rumah hijau daripada operasi kilang.

Penafian: Ringkasan berita ini dicipta oleh Public Technologies (PUBT) menggunakan kecerdasan buatan generatif. Walaupun PUBT berusaha untuk memberikan maklumat yang tepat dan tepat pada masanya, kandungan yang dihasilkan AI ini hanya untuk tujuan maklumat dan tidak boleh ditafsirkan sebagai nasihat kewangan, pelaburan atau undang-undang. Fujifilm Holdings Corporation menerbitkan kandungan asal yang digunakan untuk menghasilkan ringkas berita ini pada 21 Ogos 2026, dan bertanggungjawab sepenuhnya terhadap maklumat yang terkandung di dal amnya.